TY  - JOUR
AU  - Liddle, J
AU  - Blakey, M
AU  - Saunders, T
AU  - Farrow, R
AU  - Fetter, L
AU  - Kneurek, C
AU  - Kasica, R
AU  - al, et
AU  - Peabody, M
AU  - Takach, Shannon
AU  - Windt, D
AU  - Postek, Michael
C2  - Journal of Vacuum Science and Technology B
DA  - 1997-11-01
LA  - en
M1  - 15(6)
PB  - Journal of Vacuum Science and Technology B
PY  - 1997
TI  - Metrology of Scattering with Angular Limitation Projection Electron Lithography Masks
ER  -