TY  - GEN
AU  - Balram, Krishna Coimbatore
AU  - Westly, Daron
AU  - Davanco, Marcelo
AU  - Grutter, Karen
AU  - Li, Qing
AU  - Michels, Thomas
AU  - Ray, Christopher
AU  - Kasica, Richard
AU  - Wallin, Christopher
AU  - Gilbert, Ian
AU  - Bryce, Brian
AU  - Simelgor, Gregory
AU  - Topolancik, Juraj
AU  - Lobontiu, Nicolae
AU  - Liu, Yuxiang
AU  - Neuzil, Pavel
AU  - Svatos, Vojtech
AU  - Dill, Kristen
AU  - Bertrand, Neal
AU  - Metzler, Meredith
AU  - Lopez, Gerald
AU  - Czaplewski, David
AU  - Ocola, Leonidas
AU  - Srinivasan, Kartik
AU  - Stavis, Samuel
AU  - Aksyuk, Vladimir
AU  - Liddle, James
AU  - Krylov, Slava
AU  - Ilic, Robert
C2  - Journal of Research (NIST JRES), National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD
DA  - 2016-10-19 00:10:00
DO  - https://doi.org/10.6028/jres.121.024
LA  - en
M1  - 121
PB  - Journal of Research (NIST JRES), National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD
PY  - 2016
TI  - The Nanolithography Toolbox
UR  - https://tsapps.nist.gov/publication/get_pdf.cfm?pub_id=921714
ER  -