TY  - JOUR
AU  - Li, Wei
AU  - Pernstich, Kurt
AU  - Hight, Angela
AU  - Shen, Tian
AU  - Cheng, Guangjun
AU  - Hacker, Christina
AU  - Richter, Curt
AU  - Li, Qiliang
AU  - Gundlach, David
AU  - Liang, Xuelei
AU  - Peng, Lianmao
AU  - Liang, Yiran
C2  - Applied Physics Letters
DA  - 2013-05-08
LA  - en
PB  - Applied Physics Letters
PY  - 2013
TI  - UV/Ozone treatment to reduce metal-graphene contact resistance
UR  - https://tsapps.nist.gov/publication/get_pdf.cfm?pub_id=912639
ER  -