TY  - ICOMM
AU  - KIM, Kyung Joong
AU  - Kim, A
AU  - Kim, S.C.
AU  - Song, S.W.
AU  - Ruh, H.
AU  - Unger, W.E.S.
AU  - Radnik, J.
AU  - Mata-Salazar, J.
AU  - Juarez-Garcia, J.M.
AU  - Cortazar-Martinez, O.
AU  - Herrera-Gomez, A.
AU  - Hansen, P.E.
AU  - Madsen, J.S.
AU  - Senna, C.A.
AU  - Archanjo, B.S.
AU  - Damasceno, J.C.
AU  - Achete, C.A.
AU  - Wang, H.
AU  - Wang, M.
AU  - Windover, Donald
AU  - Steel, Eric B.
AU  - Kurokawa, A.
AU  - Fujimoto, T.
AU  - Azuma, Y.
AU  - Terauchi, S.
AU  - Zhang, L.
AU  - Jordaan, W.A.
AU  - Spencer, S.J.
AU  - Shard, A.G.
AU  - Koenders, L.
AU  - Krumrey, M.
AU  - Busch, I.
AU  - Jeynes, C.
C1  - https://www.bipm.org/documents/20126/46087117/CCQM-P190.pdf/5eaf9732-659b-fc91-c1b9-7d14f25112d1
C2  - BIPM
DA  - 2001-01-01 05:01:00
LA  - en
PB  - BIPM
PY  - 2001
TI  - Thickness measurement of nm HfO2 films
ER  -